| 型 式 |
外 観 |
特 徴 |
仕 様 |
真空
熱処理装置
E288 |
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真空熱処理装置E288は、縦型上下部蓋開閉のチャンバーを有し、炉内にモリブデンヒーターを周上に配置して真空排気を行いながら昇温を行い、高温真空中において、設置された試料の熱処理を行う装置です。
雰囲気温度は、温度プログラムによって管理され、安定した温度雰囲気で熱処理を行うことができます。最高到達温度は1200℃、常用温度は1150℃です。
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詳細仕様 |
高温真空
熱処理炉
E356 |
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高温真空熱処理炉E356は、最高到達温度1700℃の能力を有し、加熱源はカーボンヒーターにて熱処理を行う装置です。主に複数の材料同士を接合するために1000℃以上かつ表面参加防止のために高真空雰囲気で処理することを目的とした装置となっております。
到達圧力は×10-4Pa台の性能を有し、メインポンプはターボ分子ポンプを採用している為、クリーンな環境下となっております。真空空間を構成する水冷二重ジャケット式のチャンバー本体、加熱系及び断熱板、装置設置架台、真空排気系、制御系から構成されます。
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詳細仕様 |
横型真空
熱処理装置
E218 |
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横型真空熱処理装置E218は、長尺物の熱処理を目的とした装置です。各ヒーターゾーン8面を独立したPID方式にて制御しておりますので、温度指示値の信頼性も非常に高くなっております。 |
詳細仕様 |
内熱式
真空加圧
ロウ付け炉D043 |
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内熱式真空加圧ロウ付け炉D043は、Moヒーターにより均熱領域を最高1,000℃まで昇温し、ロウ付けによるガス封止を行う装置です。
圧力は×10-4Paの減圧領域から266kPaの加圧領域の範囲内にて作業可能です。真空排気、加熱、ガス導入、冷却動作を自動で行います。 |
詳細仕様 |
超高真空
熱処理炉
UHF-1150 |
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超高真空熱処理炉UHF-1150の加熱源はMoヒーターとリフレクターを採用しており、最高温度1150℃、昇温時間200℃/hrの加熱能力を有しております。
真空排気系はドライポンプとクライオポンプによる排気でクリーンな排気が可能です。到達圧力は1.0×10-6Pa、非常にクリーンな環境下での熱処理を実現いたします。加熱制御は4ゾーン3サイリスタ制御で、有効加熱領域の温度分布も100～1150℃の範囲内にて±10℃を実現しております。 |
詳細仕様 |
真空焼結炉
VB-1900 |
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真空焼結炉VB-1900は高真空状態において雰囲気内を1100℃前後まで昇温させ、金属を焼結する為の装置です。
本装置の最大の特徴は、クライオポンプの採用であり、チャンバー内をクリーンな状態に保ちます(オイルフリー)。またチャンバー内の部品は全てカーボン系の素材を使用しておりますので、熱に対して強い特性を持っております。
断熱材もカーボン系を採用しておりますので、断熱効果にも優れ、均熱帯81点測定で1100℃±3.5℃となっております。
治具は貴社のご要望に応じて変更することも可能です。 |
詳細仕様 |
卓上型ガス
置換加熱炉 |
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本装置は炉芯菅内の試料に対し、ガスフローしながら加熱、加熱後の雰囲気ガスの分析を行うことを目的とした装置です。
先進中性子増倍材料の研究開発において、試料製作および製作した試料の熱安定性を評価するために使用いたします。
装置架台、加熱炉、炉芯菅及びホルダー、真空排気系、分岐菅部（ガス導入部、分析装置接続部等）で構成されています。 |
詳細仕様 |
小型
高温真空炉 |
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本装置は高温・真空雰囲気下で小型試片の熱処理を目的とした装置です。1700℃迄60分と高速昇温が可能なのが特徴です。 |
詳細仕様 |
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