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【おすすめコンテンツ】真空蒸着装置/スパッタ装置/CVD装置/真空乾燥炉/真空熱処理炉/真空溶解炉/各種装置

内熱式真空加圧ロウ付け炉D043

<装置概要>
 本装置は、Moヒーターにより均熱領域を最高1,000℃まで昇温し、ロウ付けによるガス封止を行う装置です。圧力は×10-4(Pa)の減圧領域から266(kPa)の加圧領域の範囲内にて作業可能です。真空排気、加熱、ガス導入、冷却動作を自動で行います。

<装置性能>
1)到達圧力(負圧) 1.33×10-4Pa(常温・無負荷・空炉時)
2)最高圧力(陽圧) 266kPa
3)排気速度(負圧) ×10-3Pa台迄20分(常温・無負荷時)
4)均熱領域 W150mm×D150mm×H150mm
5)最高温度 1,000℃
6)常用温度 900℃
7)昇温速度 常温~常用温度迄合計45分以内の加熱能力
8)温度分布 真空下1,000℃時において2点の温度分布が±5℃
9)降温速度(ガス導入時) 900℃~100℃迄50分以内の冷却能力
10)排気系操作 手動/自動方式
11)加熱系操作 プログラム調節計による制御
12)操作方法 10インチ(TFT LCD カラー)タッチパネルによる操作
自動操作/手動操作/各警報表示
13)記録媒体 5.7型TFTカラー液晶画面ペーパーレスレコーダ
真空乾燥装置E069

<装置概要>
 本装置は、部品を減圧下において加熱し、乾燥処理をおこなうことを目的とした装置です。各ヒーターゾーン6面を独立したPID方式にて制御しておりますので、温度指示値の信頼性も非常に高くなっております。

<装置性能>
1)到達圧力 1.0Pa(ワーク無・常温時)
2)排気速度 1.0Pa迄大気圧から10分以内(ワーク無・常温・脱ガス完了時)
3)均熱領域 W810mm×D750mm×H500mm
4)加熱温度(ヒーター近傍測定) 最高温度:250℃ 常用温度:235℃ 設定温度:常温~250℃
5)昇温速度 ヒーター近傍測温にて13℃/min以上(速度はコントロール可)
6)加熱方式 シースヒーター6面
7)加熱制御 プログラムコントローラによるマスタースレーブ6面PID方式制御
プログラムコントローラにより19パターンのプログラムを記憶可能
8)操作方法 10インチ(TFT LCD カラー)タッチパネルによる操作
自動操作/手動操作/各警報表示
9)記録媒体 5.7型TFTカラー液晶画面ペーパーレスレコーダ
横型真空熱処理装置E218

<装置概略>
 本装置は、長尺物の熱処理を目的とした装置です。各ヒーターゾーン8面を独立したPID方式にて制御しておりますので、温度指示値の信頼性も非常に高くなっております。

<装置性能>
1)到達圧力 ×10-3Pa台(ワーク無・常温時)
2)排気速度 ×10-3Pa台迄大気圧から20分以内
(ワーク無・常温・脱ガス完了時)
4)加熱温度(炉心管外径測定) 最高温度:1,100℃ 常用温度:1,000℃
5)均 熱 帯 φ54×2,000mmL
6)加熱方式 カンタル線ヒーター8面
7)加熱制御 プログラムコントローラによるマスタースレーブ8面PID方式制御
プログラムコントローラにより19パターンのプログラムを記憶可能
8)操作方法 10インチ(TFT LCD カラー)タッチパネルによる操作
自動操作/手動操作/各警報表示
9)記録媒体 5.7型TFTカラー液晶画面ペーパーレスレコーダ