 |
 プライバシーポリシーサイトマップ |
      |
|
| HOME>代表挨拶 【おすすめコンテンツ】真空蒸着装置/スパッタ装置/CVD装置/真空乾燥炉/真空熱処理炉/真空溶解炉/各種装置  |
|||
|
|||
真空技術は、人類の未来を開く新素材・半導体・バイオテクノロジー・マイクロマシーン等の科学技術分野をリードする重要な基本技術です。 この分野での技術開発や課題解決を図るには、開発研究者の新しいアイデアによるオリジナルな研究開発装置の設計・製作が要求されます。 弊社の使命は、この要求に応えるために、物理化学現象の主要因子の制御法や実験・製造条件（ソフト）を満たす研究開発・製造用装置（ハードシステム）を設計・製造させて頂くことです。 すなわち、新技術創造と技術革新をモットーとして “SOFT & HARDSYSTEM”による 環境調和型の科学技術創造立国の構築へ貢献することが弊社の経営理念です。 弊社は、CVD、PVD、スパッタリング等の真空技術及び溶解炉、高温熱処理炉、乾燥炉等の熱技術に関して、多数のお客さまから高評価と信用を頂いております。 弊社は、50年にわたり蓄積した技術力・ノウハウ・納入実績を一層発展させる「Speed, Study, Service」の経営方針の下、お客さまの多種多様なご要望にお応えできるものと確信致しております。 代表取締役会長 木村 博司 |
 |
||
|