| 型 式 |
外 観 |
特 徴 |
仕 様 |
| 真空乾燥装置E069 |
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真空乾燥装置E069は、部品を減圧下において加熱し、乾燥処理をおこなうことを目的とした装置です。各ヒーターゾーン6面を独立したPID方式にて制御しておりますので、温度指示値の信頼性も非常に高くなっております。 |
詳細仕様 |
| 真空脱ガス炉D825 |
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真空脱ガス炉D825は、アルミ試料を真空加熱し、脱ガスを行うことを目的とした装置です。最高加熱温度は450℃まで昇温可能です。各ヒーターゾーン４面をPID方式にて制御しておりますので、温度指示値の信頼性も高くなるよう制作しております。また、記録計等もオプションにより搭載可能となっております。
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詳細仕様 |
真空脱ガス炉
SBF-200 |
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真空脱ガス炉SBF-200は電子部品および小型電気機器を真空環境下に置き、接着部や絶縁部およびコイル部を脱ガスし、品質を向上させることを目的として作られた装置です。メインポンプはクライオポンプを採用しておりますので、非常にクリーンな排気が可能です。 |
詳細仕様 |
真空脱ガス炉
SBF-250 |
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真空脱ガス炉SBF-250は各種部品の真空加熱を目的とした装置です。
最高加熱温度は250℃まで昇温可能です。
炉体内部は5段式となっており、コンパクトな装置で大容量の脱ガスが可能です。
排気系は、ロータリーポンプとメカニカルブースターポンプを採用しておりますので大容量の排気が可能です。
操作は排気系の立ち上げ・昇温工程・排気系の立ち下げがスイッチ1つで行え、初心者の方にも簡単にオペレート出来ます。 |
詳細仕様 |
真空脱ガス炉
SBF-H300R |
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真空脱ガス炉SBF-H300Rは成型部品の真空加熱を目的とした装置です。
最高加熱温度は300℃まで短時間で昇温可能です。
炉体内部は標準で2段式となっておりますが、ご要望に応じて製作することも出来ます。
加熱制御は、上面・左右側面・前後面・下面各々コントローラーで制御可能です。
本装置はライン工場向けに開発された装置で、加熱＆排気操作は全自動型。設定温度とタイマーを設定するだけでどなたでも簡単に操作することが可能です。 |
詳細仕様 |
真空脱ガス炉
SBF-300CA |
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真空脱ガス炉SBF-300CAは成型部品の真空加熱を目的とした装置です。
最高加熱温度は300℃まで短時間で昇温可能です。
炉体有効寸法は約1m3クラスありますので、大型の成型部品も処理可能です。
加熱制御は、上面・左右側面・前後面・下面各々コントローラーで制御可能です。
本装置はライン工場向けに開発された装置で、加熱＆排気操作は全自動型。
設定温度とタイマーを設定するだけでどなたでも簡単に操作することが可能です。
排気系にクライオポンプを採用しておりますので、高真空領域までの排気時間が大幅に短縮されます。 |
詳細仕様 |
真空脱ガス炉
SBF-350 |
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真空脱ガス炉SBF-350はドラム状の部品を真空乾燥させる為に開発された装置です。
1つの乾燥室にφ80mmのドラムが12本収納可能で、装置全体として最大144本の同時処理が可能です。
操作はバルブのハンドルの開閉のみで、誰でも簡単に操作出来ます。
貴社のドラムサイズに合わせて、設計製作いたしますので、是非御相談ください。 |
詳細仕様 |
真空脱ガス炉
SBF-H400DA |
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真空脱ガス炉SBF-H400DAは各種部品の真空加熱を目的とした装置です。
最高加熱温度は400℃まで昇温可能です。
炉体内部は2段式となっており、コンパクトな装置で大容量の脱ガスが可能です。
操作は排気系の立ち上げ・昇温工程・排気系の立ち下げがスイッチ1つで行え、初心者の方にも簡単にオペレート出来ます。また液晶型記録計も搭載しておりますので、温度監視や圧力監視も記録することが出来ます。 |
詳細仕様 |
真空脱ガス炉
SBF-H500TA |
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真空脱ガス炉SBF-H500TAは電子部品および小型電気機器を真空環境下に置き、接着部や絶縁部およびコイル部を脱ガスし、品質を向上させることを目的として作られた装置です。
最高加熱温度は500℃まで昇温可能です。
炉体内部は5段式となっており、コンパクトな装置で大容量の脱ガスが可能です。
排気系は、ターボ分子ポンプを採用しておりますのでクリーンな排気です。
操作は排気系の立ち上げ・昇温工程・排気系の立ち下げがスイッチ1つで行え、初心者の方にも簡単にオペレート出来ます。また液晶型記録計も搭載しておりますので、温度監視や圧力監視も記録することが出来ます。 |
詳細仕様 |
真空脱ガス炉
SBF-H500TB |
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真空脱ガス炉SBF-H500TBは、半導体部品、電極部品、ポリマー材、SUS部品等を減圧下において加熱し、脱ガス処理を行うことを目的とした装置です。メインポンプにターボ分子ポンプを採用。クリーンな減圧下において加熱作業が可能です。本装置のメインバルブはゲートバルブを採用しておりますので、通常のアングルバルブに比べて、ターボ分子ポンプの排気速度を最大限発揮出来ます。又、各ヒーターゾーン6面をPID方式にて制御しておりますので、温度指示値の信頼性も高くなるよう製作しております。 |
詳細仕様 |
真空脱ガス炉
SBF-600 |
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真空脱ガス炉SBF-600はパラフィンを含んだ粉末材料を真空加熱し、乾燥を行うことを目的とした装置です。各ステップ毎に真空雰囲気かガス雰囲気かまたはその両方(ブロー)を指定できます。 |
詳細仕様 |
真空脱ガス炉
SBF-1100 |
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真空脱ガス炉SBF-1100はガラスフリット等を、大気圧雰囲気、不活性ガス雰囲気、真空雰囲気下で熱処理を行う装置です。ガス圧力を自動で制御し、圧力を一定にしたまま作業が可能です。 |
詳細仕様 |
半導体用
脱ガス炉 |
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本装置は、半導体用に開発されたデガス炉です。
ヒーターはカンタル種の発熱体を採用しており、温度制御もPID制御にて行います。 また排気系は油回転ポンプと油拡散ポンプを採用しており、排気時間を短縮する為に、液体窒素トラップ機構も兼ね備えてあります。
炉心管は脱着を簡単に行えるようスライドガイド方式により移動が可能となっております。 |
詳細仕様 |
| FPD用乾燥炉 |
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本装置は高真空状態において500℃近くまで昇温し、被固体の脱ガス化を行う為の装置です。
本装置の排気系はドライポンプとクライオポンプを採用しており、オイルフリーの環境に対応しております。
到達圧力は×10-5Pa台ですので、非常にクリーンな環境で脱ガス処理を行うことが可能です。また温度制御方法としてプログラム温調計を採用しておりますので、パターンに応じた昇温が可能です。
クリーンルーム内の設置用に漏水センサーの採用や、安全面での配慮として冷却水の温度監視センサーを採用しております。 |
詳細仕様 |
真空脱気装置付
熱処理炉 |
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本装置はCu板ロール状のワークを真空乾燥及び焼鈍する為の装置です。
本装置の加熱方式は、シースヒーターによる抵抗加熱方式と、窒素ガス熱風循環加熱方式の2方式を採用しております。また冷却時間の短縮を実現する為に、冷却板接触による強制冷却機構を設けてあります。
ワークをセットした後、チャンバー本体フランジ面及び製品格納まで自動的に移動する機構も備わっております。 |
詳細仕様 |
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