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下記装置は一部を掲載
貴社・貴学のご予算や仕様に応じて自由にカスタマイズ可能
まずはご相談ください 早急にご提案いたします
型 式
外 観
特 徴
仕 様
RIE装置
本装置はPoly-Si膜・酸化膜・窒化膜などをCF
4
,CHF
3
,SF
6
等のガスでエッチングするための装置です。
さらにO2ガスでのフォトレジストのアッシングができる性能を有しています。
詳細仕様
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