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【おすすめコンテンツ】真空蒸着装置/スパッタ装置/CVD装置/真空脱ガス炉/真空焼結炉/真空溶解炉/各種装置


型 式
外 観
特 徴 型 式
外 観
特 徴
RD-1230
(code:C820)
 高真空蒸着装置RD-1230は
ぺロブスカイト太陽電池電極作成用小型蒸着装置です。
 抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能です。
 排気系はターボ分子ポンプによる排気で、排気操作は全自動です。
 水晶振動式膜厚計もオプションで付けることができ、卓上型タイプとしては高性能な成膜制御が可能です。
RD-1250R
(code:4491)
 高真空蒸着装置RD-1250Rは
高校・専門学校・大学校の真空工学教育用に開発された装置です。
 抵抗加熱機構を2対装備しており、サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能です。
 真空工学の授業用として開発された本装置は油回転ポンプ、油拡散ポンプ、ガイスラー真空計等専門書で紹介されている機器を標準装備しておりますので、実体験にて学習が可能です。
RD-1250R
ED-1250R
(code:5967)
 高真空蒸着装置ED-1250Rは
小型蒸着装置の全機構搭載型装置です。
 研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構2対・電子銃・基板回転機構・基板加熱機構を搭載しており、排気系もターボ分子ポンプを採用しておりますので、短時間で高真空排気が可能です。
 真空槽はガラスベルジャーとなっておりますので、内部の観察が容易に出来ます。
 2インチウエハー程度の成膜であれば本装置で十分に可能です。
【岩手県工業技術センター様】
RD-1300R
(code:6495)
 高真空蒸着装置RD-1300Rは
小型蒸着装置の水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。
 研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構2対を装備しておりますので同時成膜が可能です。また回転機構や基板加熱機構も装備しておりますので、良質な成膜が可能です。
 排気系は、ターボ分子ポンプを採用しており、クリーンな排気が可能です。
ED-1250R RD-1300R
RD-1300R
(code:9310)
 高真空蒸着装置RD-1300Rは
小型蒸着装置の水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。
 研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構2対(切替式)を装備し、真空状態のまま多層膜が可能です。
 また排気系は、油拡散ポンプを採用しておりますので、短時間で高真空までの排気が可能です。
 冷却水循環装置を標準搭載の本装置はユーティリティ環境を選びません。
RD-1300R
(code:B276)
 高真空蒸着装置RD-1300Rは
歯学研究Au成膜専用の蒸着装置です。
 基板加熱はカートリッジヒーターによる基板直接加熱で、最高650℃まで加熱可能。
 水晶振動式膜厚計も標準で搭載しております。
RD-1300R
RD-1300
(code:8659)
 高真空蒸着装置RD-1300は
Au、AuZnNi、AuGeNiをウエハ基板に成膜する為の装置です。
 メイン排気系はクライオポンプを採用し、蒸発源は抵抗加熱により構成されています。
 抵抗加熱機構はボリュームによる手動操作またはプログラムコントローラによる自動操作を切替スイッチにて切替えることが可能です。
 基板冷却機構も付加されております。
RD-1300
(code:9425)
 高真空蒸着装置RD-1300は
小型蒸着装置の水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。
 研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構2対(切替式)を装備し、真空状態のまま多層膜が可能です。また排気系は、ターボ分子ポンプを採用しておりますので、短時間でクリーンな排気が可能です。
 本装置の排気系操作(真空排気及びベント)は自動となっております。
  RD-1300
RD-1350
(code:2962)
 
 高真空蒸着装置RD-1350は
金属成膜用抵抗加熱式蒸着装置です。
 本装置はクリーンルーム設置用に開発された装置で、排気系はオイルフリー仕様のドライポンプとターボ分子ポンプを採用しております。
 また窒息防止対策、漏水対策、エアー圧力・水圧の異常も監視しております。
 装置の操作は初心者のオペレーターにも簡単に操作出来るよう、排気系の立ち上げ、立ち下げ、蒸着準備、ベントを自動で行い、成膜制御も水晶振動式膜厚計により自動で行います。
RD-1400R
(code:9862)
 高真空蒸着装置RD-1400Rは
小型蒸着装置の水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。
 研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構3対(切替式)を装備し、真空状態のまま多層膜が可能です。
 また排気系は油拡散ポンプを採用しておりますので、短時間で高真空までの排気が可能で、さらに液体窒素を使用することで10分以内に×10-4Pa台まで到達いたします。
 ベルジャー昇降機構はバランスウエイト方式を採用しておりますので、SUS304製でも軽く上昇下降し、操作性の負担を軽減しております。
RD-1400R
RD-1400
(code:4404)
 高真空蒸着装置RD-1400は
抵抗加熱1極4段式の蒸着装置です。
 本装置はSbの蒸着膜の成膜専用に開発された装置で、H2BBD機構もついております。
 排気系は600L/secクラスの油回転ポンプと、1200L/secの油拡散ポンプを採用しておりますので短時間に高真空へ到達できます。
 また液体窒素トラップの標準装備しておりますので、生産ラインの時間も気になりません。
 本装置の排気系の操作は自動・手動選択可能ですので、初心者のオペレーターにも操作は簡単に行えます。
RD-1400
(code:9999)
 高真空蒸着装置RD-1400は
小型蒸着装置の水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。
 研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構3対(切替式)を装備し、真空状態のまま多層膜が可能です。
 また排気系はターボ分子ポンプを採用しておりますので、クリーンな排気が可能です。
 基板加熱機構としてハロゲンランプを2台搭載しておりますので、短時間で350℃まで昇温可能です。
 基板回転機構も標準搭載した本装置は、膜厚分布の精度も±10%以内となっております。
【京都大学ナノテクノロジーハブ拠点様】
RD-1400 RD-1400
RD-1500
(code:B418)
 高真空蒸着装置RD-1500は
金属を成膜するための蒸着装置です。
 抵抗加熱電極が6対ありますので、多層膜や同時成膜が可能です。
 排気系動作は自動。水晶振動式膜厚計も標準で搭載しております。
ED-1500R
(code:3506)
 
 高真空蒸着装置ED-1500Rは
抵抗加熱と電子銃を標準装備しております。
 有機物、金属、貴金属、酸化物の成膜も容易にできます。
 電子銃のルツボは1mlを3点、抵抗加熱も3点有しておりますので、多層膜の成膜も可能です。
 また水晶振動式膜厚計を標準装備しておりますので、膜厚監視も可能です。
 排気系はクリーンポンプとしてターボ分子ポンプを採用しておりますので、オイルミストも気になりません。
 ED-1500R
ED-1500
(code:9464)
 高真空蒸着装置ED-1500は
水晶振動式膜厚計搭載型抵抗加熱蒸着装置です。
 将来的に3元用電子銃の増設が可能。
 研究機構向けに開発された本装置は、抵抗加熱機構3対(切替式)を装備し、真空状態のまま多層膜が可能です。
 また排気系はターボ分子ポンプを採用しておりますので、クリーンな排気が可能です。
 基板ヒーターはマイクロセラミックヒーターを採用しておりますので、300℃迄短時間で昇温します。
 基板回転機構も標準搭載した本装置は、膜厚分布の精度も±5%以内となっております。
ED-1500
(code:A474)
 高真空蒸着装置ED-1500は
金属・誘導体・半導体等を成膜するための蒸着装置で、電子銃5kWのルツボ4ヶ搭載しております。
 基板ホルダーはリフトオフ対応。基板加熱はプレートヒーターを採用し300℃まで昇温可能です。
 排気系動作は自動。成膜制御も電子銃制御装置と水晶振動式膜厚計の連動により膜厚レートの制御を自動的に行います。
ED-1500
ED-1500
(code:B175)
 高真空蒸着装置ED-1500は
金属・誘導体・半導体等を成膜するための蒸着装置です。
 電子銃10kWのルツボサイズが40mLと大きく、ルツボ点数も6点ありますので多層膜や数十ミクロンの成膜も可能です。
 排気系動作は自動。成膜制御も電子銃制御装置と水晶振動式膜厚計の連動により膜厚レートの制御を自動的に行います。
RD-1600
(coed:C218)
 高真空蒸着装置RD-1600は
有機物専用蒸着装置で、有機セルを4ヶ搭載しております。
 また、2ヶ同時成膜も可能です。L/L室が付属されておりますので、成膜室を高真空状態に保持したまま基板の交換が可能です。
 基板加熱はハロゲンランプを採用し300℃まで昇温可能です。
 排気系は自動動作。成膜制御も有機セルと水晶振動式膜厚計の連動により膜厚レートの制御を自動的に行います。
ED-1600
(code:3971)
 高真空蒸着装置ED-1600は
抵抗加熱と電子銃を標準装備しております。
 金属、貴金属、酸化物の成膜も容易にできます。
 排気系の立ち上げ、立ち下げ、蒸着準備、ベントを自動で行い、成膜制御も水晶式膜厚計により自動で行います。
 加熱機構はハロゲンランプ2基を標準装備しておりますので、基板加熱も300℃まで短時間で昇温可能です。
 研究用として開発された本装置は中規模の生産用としても十分満足できる仕様で、各方面の研究機構、メーカー様に納入させて頂いております。
 蒸着装置は金額が高価だという多くのご要望を、弊社は原価の見直しを行った結果、中規模生産用装置として破格の1000万円台を実現しました。
 仕様も多種多様。貴社・貴学のご要望に合わせて設計・製作可能ですので是非御相談ください。
ED-1700R
(code:8489)
 高真空蒸着装置ED-1700Rは
電子銃(JEOL製JEBG-303UA)による将来はマルチコートを目的とした装置であり、トリプルソースコントローラにて成膜することが出来ます。
 排気系はオイルフリー、または通常での排気も出来る様にドライポンプ、油回転ポンプの切替も可能となっています。
 ED-1600
ED-1700
(code:7127)
 高真空蒸着装置ED-1700は
電子銃(JEOL製JEBG-303UA)によるマルチコートを目的にした装置でありルツボ4点(予備1点)をトリプルソースコントローラにて成膜することが出来ます。
 また基板急冷機構及び膜厚センサーを4箇所設けてあります。
 排気系はオイルフリーを目的とし、ドライポンプ+クライオポンプ、差動排気用ターボ分子ポンプの組合せにより短時間かつクリーンな排気が可能です。
 まさに新時代に必要な万能装置といえるでしょう。
ED-1700
(code:8495)
 高真空蒸着装置ED-1700は
電子銃(JEOL製EBG-102UB4S)による金属・有機物・誘導体を成膜する装置で、ルツボ4点をトリプルソースコントローラにて成膜することが出来る装置です。
 また、基板傾斜機能、膜厚センサーを設けており、排気系はクライオポンプを取付け、短時間にて排気が可能です。
 オイルフリーを目的としたドライポンプ+クライオポンプ、ターボ分子ポンプの組合せによるクリーンな排気も可能となっています。
ED-3100  高真空蒸着装置ED-3100は
マスフローコントローラ式ガス導入系をもっているため、反応性蒸着が可能です。
 光学式と水晶式の2種類の膜厚モニターによって、各種の膜厚制御が可能です。
ED-3500  高真空蒸着装置ED-3500は
プラスチック材料に光学膜を着けるために開発されたものですが、光学膜以外の使用も可能です。
 イオンプレーティング用の直流電源及び高周波電源が標準装備されています。
 光学式と水晶式の2種類の膜厚モニターが用意されています。
 排気系はクライオポンプによるドライ排気です。
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